半導体製造装置のコントローラ 化学的気相成長法（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition） による半導体製造装置のコントロールソフトウェア。 本コントローラは、リアルタイムの製造プロセスのモニタリングが可能であり、温度、 ガスバルブ等の制御、コントロールレシピプログラムのリアルタイム変更が可能です。 また、複数の異なったレシピプログラムをマルチに実行ができ、 多様な製品の製造に対応できます。また、本コントローラはフェールセーフ 機能と自己診断機能を備えており、安全面にも十分配慮されています。 ■DATA ＯＳ：ＷｉｎｄｏｗｓNT、Ｗｉｎｄｏｗｓ９８ 開発言語：C、C++